派勒/PUHLER 榮耀?雙驅(qū)動(dòng)納米砂磨機(jī) PHN Honor 60產(chǎn)品介紹：
全新 PHN Honor 60 榮耀?雙驅(qū)動(dòng)納米砂磨機(jī)是Dr.Alexander.Pühler在全球知名的研磨系統(tǒng)"MoliNex"上做了進(jìn)一步的研發(fā)，并取得專利局批準(zhǔn)；
通過(guò)采用最新研發(fā)的 MDC(Multiple-zone Dynamic Classifier) 多通道動(dòng)態(tài)分級(jí)輪研磨轉(zhuǎn)子功能部件與大流量無(wú)篩網(wǎng)離心式料珠分離，HDS(Honor Dynamic Seperation) 分離物料及超微細(xì)研磨介質(zhì)的最新設(shè)計(jì)理念，出料通暢無(wú)阻，永不堵塞，沒(méi)有清洗堵網(wǎng)的煩惱。
德國(guó)設(shè)計(jì)新星分離技術(shù)，使得物料粗細(xì)分離研磨，大流量、高品質(zhì)，比傳統(tǒng)立式砂磨機(jī)提高38-57%以上的效率。
研磨介質(zhì)最小可用Φ0.03mm，常用0.1mm，0.2mm，0.3mm，0.5mm微珠研磨。
實(shí)現(xiàn)納米級(jí)細(xì)度研磨及分散，D99≦100nm。產(chǎn)品顆粒結(jié)構(gòu)分布均勻，粒徑正態(tài)分布范圍窄小。
全封閉式，短/粗型的研磨腔設(shè)計(jì)元素，16:10 之黃金分割比例的長(zhǎng)度/直徑/線速度系數(shù)比更佳，高能密度（2 kW/dm3）銷棒 ECM（EConoMize）高速納米砂磨機(jī)生產(chǎn)效率是普通砂磨機(jī)的3-5倍，
通過(guò)改良后的出料口設(shè)置于出料閥蘭的中下部，降低了物料沉湎時(shí)所帶來(lái)的研磨腔內(nèi)分離器的堵塞；
采用全進(jìn)口帶冷卻液的雙向滑動(dòng)雙端面機(jī)械密封裝置，密封效果好，運(yùn)行可靠，保證了軸承運(yùn)行的可靠性，能保證獲得最高的生產(chǎn)能力，并將其完美合理組合，為您提供更經(jīng)濟(jì)的濕法研磨技術(shù)；
對(duì)于防金屬污染的物料，可采用氧化鋯陶瓷（碳化硅，氮化硅，GX 280特耐磨鋼）及PU 聚氨酯結(jié)構(gòu)材料。
PHN Honor 60CE Nanomill of Alexander：
全新型超大納米研磨機(jī)已經(jīng)申請(qǐng)了國(guó)家級(jí)發(fā)明專利，是一款以高強(qiáng)度納米珠磨機(jī)技術(shù)為基礎(chǔ)的新機(jī)納米研磨型機(jī)臺(tái)，該款機(jī)型效率高、節(jié)能、環(huán)保。是世界上最大的可連續(xù)生產(chǎn)的超細(xì)納米研磨設(shè)備。
Pühler PHN Honor 技術(shù)之父 Dr. Alexander. Pühler：
PHN Honor 系列納米研磨機(jī)成功地應(yīng)用于高產(chǎn)量作業(yè)場(chǎng)所，包括通道式和循環(huán)式工藝。研磨珠在 PHN Honor 里通過(guò)PUHLER 專利的 OCS 渦輪加速器加速離心。獨(dú)特的空心轉(zhuǎn)子盤結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使珠子在缸內(nèi)形成內(nèi)部研磨珠通路，從而確保短時(shí)間內(nèi)聚集了最大能量。研磨珠的高速運(yùn)轉(zhuǎn)削弱了因物料的流動(dòng)導(dǎo)致研磨珠向出口方向的軸向運(yùn)動(dòng)。
PHN Honor 特點(diǎn)優(yōu)勢(shì)：
PHN Honor 雙驅(qū)動(dòng)臥式納米研磨機(jī)是一款真正的研磨至納米級(jí)范圍內(nèi)的高端研磨機(jī)器，采用先進(jìn)的銷棒研磨體系設(shè)計(jì)ECM（EConoMize），轉(zhuǎn)子外表面安裝了大量耐磨鋼材質(zhì)的棒銷，與定子形成了研磨腔，MDC(Multiple-zone Dynamic Classifier) 多通道動(dòng)態(tài)分級(jí)輪研磨轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)形成強(qiáng)大研磨渦流撞擊和剪切力，將物料經(jīng)動(dòng)態(tài)分離器 OCS(Open Centrifugal Separation) 循環(huán)研磨，循環(huán)研磨工藝提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，降低了能耗，產(chǎn)品顆粒級(jí)配分布得以優(yōu)化，物料研磨品質(zhì)粒度分布窄，最小研磨細(xì)度Dmax< 30nm。對(duì)于防金屬污染的物料，可采用氧化鋯陶瓷、碳化硅或聚氨酯結(jié)構(gòu)材料。
PHN Honor 工作原理：
物料隨著進(jìn)料泵由頂端進(jìn)入研磨腔，隨著轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)而均勻分布，在轉(zhuǎn)子和定子縫隙內(nèi)渦流離心力的作用下對(duì)物料進(jìn)行了徹底的預(yù)分散處理。在接下來(lái)強(qiáng)烈的研磨中，轉(zhuǎn)子棒銷和定子對(duì)研磨介質(zhì)連續(xù)發(fā)生劇烈的撞擊變化，研磨介質(zhì)再作用于物料，物料得以研磨，研磨后的物料在研磨腔停留時(shí)間特別短，從而得到一個(gè)極窄的產(chǎn)品粒度分布帶，在進(jìn)料泵壓力和離心力作用下，由于密度的不同，研磨介質(zhì)返回研磨腔，物料卻沿著離心力相反的方向經(jīng)動(dòng)態(tài)分離器過(guò)濾分離，循環(huán)往復(fù)于研磨腔內(nèi)，直至物料達(dá)到所設(shè)定之細(xì)度要求。
PHN Honor 自清潔式分離器：
當(dāng)研磨完成，需要清洗時(shí)只需要將主軸轉(zhuǎn)子停機(jī)，從進(jìn)料處通過(guò)泵浦將清洗液體輸入，并開(kāi)啟旋轉(zhuǎn)分離器電機(jī)，根據(jù)物料清洗難易程度調(diào)整轉(zhuǎn)速，清洗液體通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)的分離器時(shí)所帶來(lái)的離心力和高強(qiáng)的進(jìn)液體壓力將殘留在腔體內(nèi)的物料沖洗，從排料口或泄壓口排出，實(shí)現(xiàn)砂磨機(jī)自動(dòng)清洗功能。
PHN Honor 專利技術(shù)：
全新型分離式渦輪旋轉(zhuǎn)軸心動(dòng)態(tài)分離器出料方式，特殊的螺旋線設(shè)計(jì)；
采用獨(dú)立電機(jī)、獨(dú)立機(jī)械密封、獨(dú)立冷凍水系統(tǒng)、空心軸出料，離心力較大，出料通暢；
采用粒徑最小0.05mm-0.1mm的研磨介質(zhì)，流量恒定、大流量出料、無(wú)堵塞、無(wú)漏珠現(xiàn)象；
使用大批量亞微米級(jí)粒子的分散研磨，最優(yōu)的研磨缸高徑比，高徑比較小；
全陶瓷結(jié)構(gòu)，防爆工藝陶瓷研磨缸，無(wú)缸裂滲水風(fēng)險(xiǎn)，零污染；
智能生產(chǎn)線體系，人機(jī)界面DCS控制，適建大型智能化生產(chǎn)線。
PHN Honor 60CE：主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細(xì)研磨及分散：
1) Color paste / Color filter / TFT LCD ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級(jí)，透明度需超過(guò)90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級(jí)，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)納米級(jí)且能滿足無(wú)金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact)：應(yīng)用于雷射列表機(jī)光鼓上所涂布光導(dǎo)體，已研磨分散到納米級(jí)。
5) 納米級(jí)粉體研磨，如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…，可分散研磨到30 nm。
6) 納米級(jí)粉體分散。如將納米粉體分散到高分子，或?qū)⒓{米級(jí)粉體添加到塑膠﹑橡膠等進(jìn)行分散。
7) 醫(yī)藥達(dá)到納米級(jí)要求，且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達(dá)到納米級(jí)之要求。如β胡蘿卜素…，需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達(dá)到納米級(jí)需求，且需能滿足無(wú)金屬離子析出問(wèn)題。
10)其他特種軍工, 航空納米材料。
11)如:電子產(chǎn)業(yè)﹑光電產(chǎn)業(yè)﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑化纖產(chǎn)業(yè)﹑建材產(chǎn)業(yè)﹑金屬產(chǎn)業(yè)﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制藥和細(xì)胞破碎﹑氧化物﹑納米材料﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑肥皂、皮革、電子陶瓷、導(dǎo)電漿料、膠印油墨、紡織品、噴繪油墨、芯片拋光液、細(xì)胞破碎、化妝品、噴墨墨水、金屬納米材料、塑料材料、特種納米航空材料等行業(yè).
